电子制造和半导体封装精密清洗专家、工艺方案及咨询培训服务提供商ZESTRON非常荣幸地宣布《pH中性清洗剂技术》技术公开课将于北京时间5月27日下午3点在线直播。ZESTRON清洗工艺工程师团队精选行业热门话题，分享洁净度和可靠性领域的核心知识，帮助您在办公桌前轻松获得高质量的技术培训。如您需要分析服务、咨询服务、或更加灵活系统的培训方式，ZESTRON可以基于您的具体需求提供定制化的服务方案，欢迎通过academy-china@zestron.com 与我们取得联系。

课程安排（周三下午3点）：

清洗工艺的发展经历了三个重要时期。技术发展方向由溶剂型和表面活性剂型转向水基型，而pH中性清洗工艺则在材料兼容性方面为业界设定了新的标准，本场讲座将为您呈现：1）清洗技术发展历程简介 ；2）pH中性清洗技术独特优势；3）相关技术研究分享。

参与方式（微信快捷登录）：

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